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產(chǎn)品中心

Product Center

北京離子濺射/蒸碳一體機(jī)

產(chǎn)品簡(jiǎn)介

北京離子濺射/蒸碳一體機(jī)- 儀器尺寸 : 400mm×300mm×400mm(L×W×H)
- 真空樣品室: 硼硅酸鹽玻璃 160mm×110mm(D×H)
- 靶(上部電極): 50mm×0.1mm(D×H)
- 樣品臺(tái): 50mm (D)
- 操作真空: 4×10-1mbar至2×10-2mbar
- 工作電壓: 0-1600V (DC)可調(diào) 。

產(chǎn)品型號(hào):GH/ETD-2000C
更新時(shí)間:2024-10-24
廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家
訪問(wèn)量:687
詳細(xì)介紹在線留言
產(chǎn)地類別國(guó)產(chǎn)

離子濺射/蒸碳一體機(jī)  濺射蒸碳儀

型號(hào):GH/ETD-2000C

  • 技術(shù)參數(shù)
  • 北京離子濺射/蒸碳一體機(jī)配置參數(shù)如下: 

    - 儀器尺寸 : 400mm×300mm×400mm(L×W×H) 
    - 真空樣品室: 硼硅酸鹽玻璃 160mm×110mm(D×H) 
    - 靶(上部電極): 50mm×0.1mm(D×H) 
    - 樣品臺(tái): 50mm (D) 
    - 操作真空: 4×10-1mbar至2×10-2mbar 
    - 工作電壓: 0-1600V (DC)可調(diào) 
    - 濺射電流: 0-50mA 
    - 濺射定時(shí): 1-9999S 
    - 蒸碳電流 0-10A(AC) 
    - 真空泵: 4升兩級(jí)機(jī)械旋轉(zhuǎn)泵(極限真空2×10-2mbar)

  • 北京離子濺射/蒸碳一體機(jī)主要特點(diǎn)
  • 在 ETD-2000/3000 離子濺射儀基礎(chǔ)上,增加了熱蒸發(fā)附件,可以蒸發(fā)碳絲,具有濺射和蒸發(fā)兩種功能。因此擴(kuò)展了應(yīng)用范圍,特別適用于掃描電鏡實(shí)驗(yàn)室樣品制備。

  • 儀器介紹
  • ETD-2000C 濺射蒸碳儀是依據(jù)二極(DC)直流濺射原理設(shè)計(jì)而成的,zui簡(jiǎn)單、可靠、經(jīng)濟(jì)的鍍膜設(shè)備。同時(shí)增加了熱蒸發(fā)附件,具有濺射和蒸發(fā)兩種功能。 

    滿足電鏡實(shí)驗(yàn)室的掃描電子顯微鏡(SEM)樣品制備和非導(dǎo)體材料實(shí)驗(yàn)電極制作。

  • 技術(shù)參數(shù)
  • 配置參數(shù)如下: 

    - 儀器尺寸 : 400mm×300mm×400mm(L×W×H) 
    - 真空樣品室: 硼硅酸鹽玻璃 160mm×110mm(D×H) 
    - 靶(上部電極): 50mm×0.1mm(D×H) 
    - 樣品臺(tái): 50mm (D) 
    - 操作真空: 4×10-1mbar至2×10-2mbar 
    - 工作電壓: 0-1600V (DC)可調(diào) 
    - 濺射電流: 0-50mA 
    - 濺射定時(shí): 1-9999S 
    - 蒸碳電流 0-10A(AC) 
    - 真空泵: 4升兩級(jí)機(jī)械旋轉(zhuǎn)泵(極限真空2×10-2mbar)

  • 主要特點(diǎn)
  • 在 ETD-2000/3000 離子濺射儀基礎(chǔ)上,增加了熱蒸發(fā)附件,可以蒸發(fā)碳絲,具有濺射和蒸發(fā)兩種功能。因此擴(kuò)展了應(yīng)用范圍,特別適用于掃描電鏡實(shí)驗(yàn)室樣品制備。

  • 儀器介紹
  • ETD-2000C 濺射蒸碳儀是依據(jù)二極(DC)直流濺射原理設(shè)計(jì)而成的,zui簡(jiǎn)單、可靠、經(jīng)濟(jì)的鍍膜設(shè)備。同時(shí)增加了熱蒸發(fā)附件,具有濺射和蒸發(fā)兩種功能。 

    滿足電鏡實(shí)驗(yàn)室的掃描電子顯微鏡(SEM)樣品制備和非導(dǎo)體材料實(shí)驗(yàn)電極制作。

  • 技術(shù)參數(shù)
  • 配置參數(shù)如下: 

    - 儀器尺寸 : 400mm×300mm×400mm(L×W×H) 
    - 真空樣品室: 硼硅酸鹽玻璃 160mm×110mm(D×H) 
    - 靶(上部電極): 50mm×0.1mm(D×H) 
    - 樣品臺(tái): 50mm (D) 
    - 操作真空: 4×10-1mbar至2×10-2mbar 
    - 工作電壓: 0-1600V (DC)可調(diào) 
    - 濺射電流: 0-50mA 
    - 濺射定時(shí): 1-9999S 
    - 蒸碳電流 0-10A(AC) 
    - 真空泵: 4升兩級(jí)機(jī)械旋轉(zhuǎn)泵(極限真空2×10-2mbar)

  • 主要特點(diǎn)
  • 在 ETD-2000/3000 離子濺射儀基礎(chǔ)上,增加了熱蒸發(fā)附件,可以蒸發(fā)碳絲,具有濺射和蒸發(fā)兩種功能。因此擴(kuò)展了應(yīng)用范圍,特別適用于掃描電鏡實(shí)驗(yàn)室樣品制備。

  • 儀器介紹
  • ETD-2000C 濺射蒸碳儀是依據(jù)二極(DC)直流濺射原理設(shè)計(jì)而成的,zui簡(jiǎn)單、可靠、經(jīng)濟(jì)的鍍膜設(shè)備。同時(shí)增加了熱蒸發(fā)附件,具有濺射和蒸發(fā)兩種功能。 

    滿足電鏡實(shí)驗(yàn)室的掃描電子顯微鏡(SEM)樣品制備和非導(dǎo)體材料實(shí)驗(yàn)電極制作。

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